型号 | PRO-2T/H001 | 加工定制 | 是 |
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进水口径 | 20mm | 产水量 | 2000L/H |
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规格 | 1015*850 | 工作压力 | 0.3psi |
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树脂层高度 | 800 | 设备净重 | 1580 |
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出水能力 | 500 |
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一、全自动去离子水设备概述:
工业去离子水主要指采用离子交换树脂处理方法,用离子交换树脂中的阳树脂及阴树脂去除水中的阴离子和阳离子,去离子水是指除去了呈离子形式杂质后的纯水。现在工艺主要采用RO反渗透的方法制取。更高纯度的水质在反渗透后面还需加EDI或混床超纯水装置,超纯水还需加核能级抛光混床。规范化组织ISO/TC147中规定的去离子”定义为:去离子水完全或不完全地去除离子物质。但水中仍然存在可溶性的有机物,可以污染离子交换柱从而降低其功效,去离子水存放后也容易引起细菌的繁殖。半导体行业中,去离子水被称为“高纯水”或是18兆欧水
蒸馏水只是先气化再冷凝,相对而言。其水的纯度一般不如纯度高的去离子水(如电导率),半导体工业生产中用的大多数是高纯度的去离子水
从自来水到去离子水一般要经过几步处理
1.先通过石英砂过滤颗粒较粗的杂质
2.然后高压通过反渗透膜
3.可以再进行一次离子交换过程电阻率可达达18兆欧
4.***后一般还要经过一步紫外杀菌以去除水中的微生物以及配置0.22U精密过滤器
工业去离子水,DI离子水机,DI水设备,去离子水装置
二、全自动去离子水设备工艺流程:
工艺一:
原水箱(设有压力保护)→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软化过滤器(根据地域及水源不同及选用)→精密过滤器→RO高压泵→RO反渗透系统→RO水箱→RO水增压泵→混床→终端精密过滤→生产用水点(水质可以达到10MΩ.cm以上即0.06μs/㎝以下,25℃)
工艺二:
原水箱(设有压力保护)→增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水装置(根据地域及水源不同选用)→保安过滤器→反渗透主机高压泵→RO反渗透系统→纯水箱→混床增压泵→混合离子交换器→抛光核能级混床→终端精密过滤→生产用水点(水质可以达到18MΩ.cm(兆欧)以上即0.056us/㎝以下,25℃)
工艺三:
原水箱(设有压力保护)→增压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化器(根据地域不同选用)→精密过滤器→反渗透高压泵→RO反渗透系统→RO纯水箱→EDI增压泵→EDI电去离子主机→终端精密过滤→UV紫外线杀菌→设备用水(水质可以达到16MΩ.cm以上即0.062us/㎝以下,25℃)
以上工艺流程仅供参考,如需了解购买水处理设备请来电索取祥细的设计方案书。
三、全自动去离子水设备的用途:
1、化妆品行业:护肤品生产用纯水、洗发水生产用纯水、染发剂生产用纯水、牙膏生产用纯水 、洗手液生产用水、洗洁精配方用水、洗衣液生产工艺用水等等;
2、电子工业:铝箔清洗;电子管喷涂配液;显相管清洗;玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗;液晶屏屏面清洗和配液用去离子水:晶体管和集成电路的硅片清洗用水、配制水超纯水等;
3、电池行业:蓄电池生产去离子水设备、锂电池生产去离子水设备、太阳能电池生产去离子水设备等;
4、混凝土外加剂配制去离子水设备;玻璃镀膜用去离子水设备、玻璃制品清洗去离子水设备、灯具清洗去离子水设备、真空镀膜用纯水机,光学镀膜用纯水处理设备等;
5、纺织印染工业:印染助剂配制去离子水设备、湿巾用去离子水设备、面膜去离子水设备等;
6、超声波清洗纯水设备等;
7、涂装行业:涂料配制去离子水设备、电镀配制清洗去离子水设备、电泳漆配制清洗去离子水设备等;